技術編號：11102510
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于硅的微納加工領域，具體涉及一種硅的中紅外抗反射微結構的制備方法。背景技術近年來，伴隨著硅基光電子技術領域的不斷發(fā)展，硅基光電子應用的波長范圍逐漸從傳統(tǒng)的通信波段范圍擴展到中紅外波段和遠紅外波段。根據紅外輻射在大氣層中的傳輸條件，紅外光譜通常分為遠紅外(NIR)、中紅外(MIR)和遠紅外(FIR)。其中，中紅外光譜(2.5um-25um)由于譜帶靈敏性高、基頻振動強的特點，被廣泛應用于環(huán)境監(jiān)測、遙感技術等傳感應用中。微納加工技術是一門由微電子技術、傳統(tǒng)機械加工、非傳統(tǒng)加工技術或特種加工技...
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