技術(shù)編號(hào)：11203012
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本公開涉及半導(dǎo)體器件和制造該半導(dǎo)體器件的方法，更具體地，涉及包括形成在線之間的氣隙的半導(dǎo)體器件和制造該半導(dǎo)體器件的方法。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的后段制程(BEOL)工藝中，以線之間沒有干擾的方式圖案化多條線是重要問題之一。隨著最近的半導(dǎo)體器件迅速地按比例縮小，線之間的間距變窄。因此，已經(jīng)提出了用于通過在線之間形成氣隙來減小線之間的電容的方法。發(fā)明內(nèi)容一個(gè)或更多個(gè)實(shí)施方式可以提供一種半導(dǎo)體器件，該半導(dǎo)體器件包括：在襯底上的第一下部線和第二下部線，第一下部線和第二下部線在第一方向上延伸、彼此相鄰、并沿...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。