技術(shù)編號(hào)：11426236
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于微納加工技術(shù)領(lǐng)域，更具體地，涉及一種基于連續(xù)激光的三維微結(jié)構(gòu)刻寫系統(tǒng)及方法。背景技術(shù)雙光子聚合激光直寫技術(shù)是一種將激光束會(huì)聚成極小的光點(diǎn)然后對(duì)光敏材料進(jìn)行曝光，直接生成微納結(jié)構(gòu)的技術(shù)，其基本原理是雙光子吸收效應(yīng)和雙光子聚合效應(yīng)。雙光子吸收效應(yīng)是一種非線性效應(yīng)，具有極強(qiáng)的閾值選擇性，可以“直接寫得”突破光學(xué)衍射極限的三維結(jié)構(gòu)。由于雙光子吸收需要強(qiáng)光激勵(lì)，因此常常采用近紅外波長(zhǎng)的昂貴的飛秒激光器作為刻寫光源。綜上，現(xiàn)有三維微結(jié)構(gòu)刻寫需要飛秒激光器作為刻寫光源實(shí)現(xiàn)強(qiáng)光激勵(lì)，成本較高。發(fā)明內(nèi)容...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。