技術(shù)編號：11426677
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本揭露是有關(guān)于一種溢流裝置及處理裝置，且特別是有關(guān)于一種可隨液面調(diào)整高度的溢流裝置及應(yīng)用其的處理槽。背景技術(shù)光學膜材通常需要歷經(jīng)各種液體處理的濕式制程，但于工藝期間，容易產(chǎn)生膜屑或塵埃等雜質(zhì)漂浮于處理液之中，經(jīng)回流后便有很高的機率附著于光學膜材上，導(dǎo)致缺陷產(chǎn)生。發(fā)明內(nèi)容本揭露內(nèi)容有關(guān)于一種溢流裝置及處理裝置及光學膜材的形成方法。溢流裝置包括一引流板，可動地配置于盒體部的至少一側(cè)上，且引流板的高度為可調(diào)式，以控制處理液的流向并將其導(dǎo)引至盒體部內(nèi)過濾掉雜質(zhì)，減少雜質(zhì)沾附于光學膜材上的機率。根據(jù)本揭露...
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