技術(shù)編號(hào):11478691
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及光學(xué)成像或檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種超高分辨率寬場(chǎng)成像系統(tǒng)。背景技術(shù)光學(xué)、半導(dǎo)體、電路板等光電原件表面的缺陷檢測(cè)通常采用人工或者自動(dòng)光學(xué)成像的方法,即利用顯微鏡透鏡的放大功能將被測(cè)表面上的瑕疵等用光電傳感器記錄下來(lái)。該方法能分辨最小的劃痕的尺寸取決于所用顯微鏡的分辨率;該方法所能探測(cè)的橫向(垂直于光的傳播方向)范圍取決于面陣相機(jī)的像元數(shù)量;該方法所能探測(cè)的軸向(沿著光的傳播方向)范圍取決于光學(xué)系統(tǒng)的焦深或者景深。高速大范圍光學(xué)表面的高精度缺陷檢測(cè)通常面臨以下難點(diǎn):顯微鏡的分辨率的提...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。