技術編號：11851899
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及處理制程設備發(fā)生的廢氣的等離子體反應器，特別是涉及一種具有分解制程腔室排出的廢氣，防止導管因等離子體放電而受到損壞的結構，過熱時能夠進行冷卻的處理制程設備發(fā)生的廢氣的等離子體反應器。背景技術半導體、顯示裝置、太陽電池等的制程適用形成功能性薄膜、干蝕刻等制程。這些制程一般都是在真空腔室中進行，在形成功能性薄膜時利用多種金屬、非金屬前驅體作為制程氣體，干蝕刻使用多種蝕刻氣體。從制程腔室中排出廢氣的系統(tǒng)的構成要素包括制程腔室、真空泵和洗滌器等且彼此通過排氣線連接。此處，從制程腔室排出的氣體因...
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