技術(shù)編號(hào)：12178879
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及到光學(xué)遙感成像的技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及到一種基于場(chǎng)景的圖像自適應(yīng)非均勻校正方法。背景技術(shù)紅外焦平面探測(cè)器是現(xiàn)有紅外成像或者探測(cè)系統(tǒng)的核心部件，廣泛應(yīng)用于軍事和民用領(lǐng)域，是保證航天航空、國防軍事、國土資源調(diào)查、精準(zhǔn)農(nóng)業(yè)、環(huán)境監(jiān)測(cè)、大氣探測(cè)、極端災(zāi)害預(yù)報(bào)等領(lǐng)域高速發(fā)展的關(guān)鍵技術(shù)。隨著焦平面探測(cè)器工藝水平的提高，紅外焦平面的規(guī)模已擴(kuò)大至上百萬像元。但由于現(xiàn)有制造工藝水平和材料的限制，造成了紅外焦平面陣列輸出幅度并不相同，即紅外焦平面陣列在外界同一均勻輻射場(chǎng)輸入時(shí)各個(gè)像元之間響應(yīng)輸出的不一致性，通...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。
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