技術(shù)編號:12415646
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及鍍膜,特別是一種用于電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)內(nèi)鍍制“雕塑”薄膜的電子束蒸發(fā)傾斜沉積鍍膜裝置及使用方法。背景技術(shù)隨著鍍膜技術(shù)的不斷完善和發(fā)展,電子束蒸發(fā)鍍膜技術(shù)在工業(yè)上成為一項非常廣泛應(yīng)用的鍍膜技術(shù),電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)是常用的光學(xué)鍍膜設(shè)備。該設(shè)備主要有三大部分組成:真空系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、膜層厚度控制系統(tǒng),鍍膜過程是在真空室內(nèi)進(jìn)行的。圖1是現(xiàn)有電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)的真空室的結(jié)構(gòu)示意圖,主要包括真空系統(tǒng)1、進(jìn)氣裝置2、排氣閥門3、步進(jìn)電機(jī)4、連接筒5、基片安裝夾具6、活動擋板7、角度準(zhǔn)直裝置8和電子束蒸發(fā)...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。