技術(shù)編號：12415662
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明屬于真空電弧離子鍍膜領(lǐng)域，具體涉及一種位置連續(xù)可調(diào)的電弧靶引弧針固定裝置。背景技術(shù)在電弧離子鍍膜設(shè)備鍍膜過程中，通過引弧針尖觸碰靶材表面產(chǎn)生放電進行引弧。鍍膜過程中，引弧針位置與靶材表面距離過近，引弧針針尖溫度將不斷升高，持續(xù)燒蝕的電弧會使針尖部分熔斷，造成滅弧后鍍膜工作無法繼續(xù)進行；引弧針位置與靶材距離過遠，弧針針尖與靶面不能接觸，以致無法放電啟弧。隨著靶材的不斷消耗，每次鍍膜前引弧針的位置需要調(diào)整，使引弧過程中弧針針尖與靶面接觸放電，順利啟弧且不會熔斷弧針，由于靶材消耗程度難以度量，給...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。