技術(shù)編號：12699329
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本申請要求2015年12月11日提交的韓國專利申請No.KR10-2015-0177420和2016年3月21日提交的韓國專利申請No.KR10-2016-0033169的優(yōu)先權(quán)，其在此通過引用以其全文并入本申請。本公開涉及用于鎢層的蝕刻溶液組合物，并具體地涉及包括N-甲基嗎啉N-氧化物和水的、用于鎢層的蝕刻溶液組合物，該蝕刻溶液組合物在僅選擇性蝕刻鎢基金屬而不會蝕刻基于氮化鈦的金屬或碳化鈦鋁金屬方面有效。背景技術(shù)鎢或鎢基金屬被用在液晶顯示器和半導體器件的薄膜晶體管的柵極、線、阻擋層或接觸孔和通...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。