技術(shù)編號：1360548
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開了一種太陽能級硅片清洗劑，具體是涉及一種用于太陽能級硅片清洗的環(huán)保型水基清洗劑。背景技術(shù)太陽能級硅片表面的潔凈度及表面態(tài)對高質(zhì)量的硅器件工藝至關(guān)重要，如果表面質(zhì)量達(dá)不到要求，無論其他工藝步驟控制得多么優(yōu)秀，都不可能獲得高質(zhì)量的太陽能級硅片器件。硅片表面上存在的污染物主要是粒子、金屬、有機(jī)物、濕氣分子和自然氧化物中的一種或幾種。目前，硅片清洗方法大致可分為化學(xué)清洗、超聲清洗、兆聲清洗、聲光清洗、離心清洗、氣相干洗和高壓噴洗等。其中化學(xué)清洗又可分為R...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。