技術(shù)編號：1465527
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型的沖洗裝置包括腔室，連接所述腔室的注入管道和沖洗管道，還包括一凈化裝置，通過進氣管道和出氣管道將凈化氣體注入腔室中以取代腔室中的氧氣，并能通過閥門使腔室中保持一定的壓力。另外，將注入管道加長，延伸至腔室的底部，防止了將腔室中上部的氧氣帶入沖洗液中，更好地實現(xiàn)了減少沖洗液中的溶解氧，以達到保護襯底上金屬層的目的。專利說明沖洗裝置 [0001]本實用新型涉及半導體領(lǐng)域，尤其涉及一種沖洗裝置。 背景技術(shù) [0002]刻蝕是集成電路制造工藝中相...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。