技術編號：2673290
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于半導體制造裝備，主要涉及一種基于自主同步調(diào)向的雙工件臺回轉交換方法與裝置。背景技術光刻機是極大規(guī)模集成電路制造中重要的超精密裝備之一。光刻機的分辨率和套刻精度決定了集成電路芯片的最小線寬，同時光刻機的產(chǎn)率則極大的影響集成電路芯片的生產(chǎn)成本，而作為光刻機關鍵子系統(tǒng)的工件臺又在很大程度上決定了光刻機的分辨率、套刻精度和產(chǎn)率。產(chǎn)率是光刻機發(fā)展的主要追求目標之一。在滿足分辨率和套刻精度的條件下，提高工件臺運行效率進而提高光刻機產(chǎn)率是工件臺技術的發(fā)展方向。...
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