技術(shù)編號：2690045
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及光刻機，特別是一種用于紫外光刻機的光刻照明系統(tǒng)。背景技術(shù)隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展,光刻成像的分辨率要求越來越高,相應(yīng)地,對光刻照明系統(tǒng)的要求也越來越高。在先進光刻機的照明系統(tǒng)中，通過選擇和光刻掩模圖形的結(jié)構(gòu)和尺寸相對應(yīng)的光瞳面照明光強分布，特別是通過改變光瞳面上環(huán)形照明的環(huán)帶的內(nèi)徑大小和環(huán)帶寬度，來提高光刻機的分辨率，改善光刻圖形的對比度，從而實現(xiàn)超精細光刻圖形的精確復(fù)制。目前的紫外光刻照明系統(tǒng)中，光瞳面照明光強分布的形成主要靠衍射光學(xué)元件、連續(xù)...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。