技術(shù)編號(hào)：2696598
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)公開了，該方法在建立光學(xué)鄰近效應(yīng)模型過程中，在原本對(duì)焦平面不敏感的光罩圖形中加入焦平面敏感的檢測(cè)圖形，用于選擇最佳焦平面相關(guān)參數(shù)的取值，突破了用泊桑曲線選擇最佳焦平面的局限性。專利說明[0001]本發(fā)明涉及半導(dǎo)體器件的制作技術(shù)，特別涉及。背景技術(shù)[0002]在集成電路制造中，為了將電路圖形順利地轉(zhuǎn)移到晶片襯底上，必須先將該電路圖形設(shè)計(jì)成光罩上的光罩圖案，然后再將光罩圖案通過曝光顯影工藝轉(zhuǎn)移到該晶片襯底上，轉(zhuǎn)移晶片襯底上的圖形稱為光刻圖案。該晶片襯底包...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。