技術(shù)編號(hào)：2745352
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光譜中涉及的一種凹面全息光柵制作中精確調(diào)整光柵基底位置的方法。背景技術(shù)凹面全息光柵的制作是利用光刻膠記錄兩束相干球面光波的干涉條紋，然后經(jīng)顯影轉(zhuǎn)化為浮雕輪廓。它具有不等間距的彎曲刻線，通過理論設(shè)計(jì)改變兩束記錄光波的波源點(diǎn)的空間位置可以改變刻線的形狀與分布，進(jìn)而達(dá)到在使用波段內(nèi)消除像差的目的。在凹面全息光柵的制作中，直接影響制作出的凹面全息光柵的成像質(zhì)量的是制作結(jié)構(gòu)參數(shù)，包括記錄光波的波源點(diǎn)與光柵基底中心的距離以及記錄光中心主光線與光柵基底中心法線...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。