技術編號：2768736
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及化學增強的光刻膠，它包括一種脂環(huán)丙烯酸(alicyclicacrylic polymer)聚合物和一種光酸發(fā)生劑(photoacid generator)，并加入一種芳環(huán)樹脂。它可被用作正膠，例如應用于圖形生成，其中這種正膠形成于半導體基片上，經(jīng)一塊掩模或一塊原版受到ArF激光器發(fā)射光的曝光，經(jīng)過PEB(曝光后烘烤)處理，并用顯影劑顯影。在常規(guī)的光刻技術中，主要使用溶解性被抑制的正膠；其中使用了酚醛清漆聚合物作為基質(zhì)聚合物， 加入萘醌二疊氮基(...
注意：該技術已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權人授權前，僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權，增加技術思路，做技術知識儲備，不適合論文引用。