技術編號：2774220
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及能以高清晰度成像的，特別是涉及適合使用在半導體集成電路中的光刻法所必需的電路圖形的形成上的投影裝置以及方法。背景技術 提出有一種利用微鏡陣列等空間光調(diào)制器來進行描繪的投影裝置的方案。作為這樣的投影裝置，已知使用了DMD(DigitalMicromirror Device商品名)的系統(tǒng)。該系統(tǒng)除了顯示器的用途以外，還可以有望應用于半導體光刻法和照片印刷等各種領域。專利文獻1公開了將DMD應用在半導體光刻法中的技術。根據(jù)該技術，不使用曝光用的光掩模，...
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