技術(shù)編號：2774236
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種，具體的說，涉及一種利用抗刻蝕金屬膜和厚光刻膠相結(jié)合構(gòu)成的復(fù)合掩膜，用于二氧化硅的反應(yīng)等離子刻蝕工藝中，制作二氧化硅平面光波導(dǎo)器件。背景技術(shù) 平面光波導(dǎo)技術(shù)由于能夠?qū)崿F(xiàn)光集成、光電混合集成、小型化以及批量生產(chǎn)等分離器件無法達(dá)到的優(yōu)勢，自出現(xiàn)以來一直被人們認(rèn)為是光通信器件的發(fā)展方向，是光通信器件行業(yè)的一個研究的熱點(diǎn)。硅基二氧化硅波導(dǎo)由于其和ITU-T標(biāo)準(zhǔn)單模光纖能夠很好的實(shí)現(xiàn)模式匹配，并且其制作工藝可以借鑒相對成熟的集成電路半導(dǎo)體工藝，二者工藝...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。