技術(shù)編號：2776791
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及圖像曝光裝置。尤其是，本發(fā)明涉及這樣一種圖像曝光裝置在其中光敏材料通過在其上聚焦光圖像而被曝光，所述光圖像由經(jīng)空間光調(diào)制器件所調(diào)制的光線表示。本發(fā)明還涉及使用這種圖像曝光裝置的圖像曝光方法。背景技術(shù) 圖像曝光系統(tǒng)是已知的，其中經(jīng)空間光調(diào)制器件所調(diào)制的光線通過圖像聚焦光系統(tǒng)，將由上述光線所表示的圖像聚焦在預(yù)定光敏材料上，以使用上述圖像對上述光敏材料曝光。這種圖像曝光系統(tǒng)主要包括空間光調(diào)制器件、光源和圖像聚焦光系統(tǒng)，空間光調(diào)制器件具有二維布置的多個像...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
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