技術(shù)編號：2922717
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及用于帶電粒子曝光裝置的帶電粒子光學(xué)系統(tǒng)，尤其涉及使用帶電粒子的無掩模平版印刷系統(tǒng)。背景技術(shù) 平版印刷系統(tǒng)的發(fā)展尤其受到了摩爾定律的推動，即，每18個月每單位面積的晶體管數(shù)量就要翻一番。因此其結(jié)構(gòu)元件(feature)尺寸的迅速減小，導(dǎo)致了目前用于提供圖樣的掩模的費(fèi)用急劇增加。為了避免增加掩模的費(fèi)用，幾種無掩模平版印刷的設(shè)計正在開發(fā)之中。在這些設(shè)計中，圖樣由圖樣數(shù)據(jù)提供。由于掩模是用以儲存圖樣的高度有效的方式，因此用于描述這種圖樣的原始數(shù)據(jù)的量是巨...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。