技術(shù)編號：3252399
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。,以及制造半導(dǎo)體器件的設(shè)備的制作方法本發(fā)明涉及用于處理襯底的方法和裝置。更具體，本發(fā)明涉及用于使用等離子體處理襯底的方法和裝置。背景技術(shù) 各種處理用于制造使用例如晶片的襯底的半導(dǎo)體器件。許多處理，例如淀積、蝕刻和清洗工序，使得從處理氣體生成等離子體，并將等離子體提供到襯底。因此，用于執(zhí)行等離子體處理工序的裝置包括處理室和等離子體生成器，該等離子體生成器生成等離子體并將等離子體提供到處理室中的襯底。蝕刻裝置的等離子體生成器可以是電容耦合等離子體(CCP)生成...
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