技術編號：3257893
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種非平衡閉合場磁控濺射離子鍍設備，屬于非平衡磁控濺射沉積。背景技術現(xiàn)在很多材料在使用前都需要進行鍍膜處理?，F(xiàn)在幾乎任何材料都可以通過真空鍍膜技術涂覆到其他材料表面上，為真空鍍膜技術在各種工業(yè)領域中的應用開辟了更加廣闊的前景。在材料表面上，堵上一層薄膜，就能使該中材料具有許多新的物力和化學性能。真空下制備薄膜，環(huán)境清潔，膜不易受污染，可獲得致密性好、純度高、膜厚均勻的涂層。磁控濺射真空鍍膜濺射出來的粒子能量為幾十電子伏特，粒子能量大，因而薄膜與基...
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