技術編號：3318083
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明公開了一種，用于玻璃基片的真空鍍膜，該裝置包括小腔體、蒸發(fā)管道、真空泵、晶振檢測儀、安裝有基片傳輸機構的主腔體，及安裝有線性蒸發(fā)源的副腔體，主腔體位于副腔體上方并通過一可開閉的擋板隔開，小腔體位于主腔體上方并通過一閥門隔開，蒸發(fā)管道的入口與線性蒸發(fā)源相接觸，出口穿過擋板和主腔體朝向并臨近閥門；晶振測試儀包括晶振片和檢測機構，晶振片安裝在小腔體內并位于蒸發(fā)管道出口的上方，檢測機構測量晶振片的頻率變化并計算出接近實際鍍膜厚度的測量鍍膜厚度和相應的測量膜厚...
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