技術(shù)編號：3374623
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及成膜裝置。 背景技術(shù)通常，當利用蒸鍍、濺射等在諸如基片一類的成膜對象物上形成薄膜時，為控制所要形成的薄膜的厚度，在成膜室內(nèi)配置石英振蕩器。當成膜室內(nèi)配置有石英振蕩器時，在形成薄膜時，形成薄膜的成膜材料既沉積于石英振蕩器上，又沉積于成膜對象物上。這里，當成膜材料沉積于石英振蕩器上時，該石英振蕩器的共振頻率依據(jù)沉積于其上的成膜材料的量發(fā)生變化。利用此現(xiàn)象，可獲知沉積于成膜對象物上的成膜材料的膜厚。具體的，由共振頻率的變化量算出沉積在石英振蕩器上的膜厚...
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