技術(shù)編號(hào)：3402926
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及室清潔處理，更具體地說，本發(fā)明涉及放熱性的室清潔處理。背景技術(shù) 許多半導(dǎo)體制造工藝是在例如等離子刻蝕系統(tǒng)、等離子沉積系統(tǒng)、熱處理系統(tǒng)、化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)等處理系統(tǒng)中進(jìn)行的。處理系統(tǒng)常常使用可以為襯底(例如晶片)提供支撐和加熱的襯底支架。襯底支架可以含有陶瓷材料，該陶瓷材料具有低的熱膨脹、高的耐熱性、低的介電常數(shù)、高的熱發(fā)射率、化學(xué)“潔凈”的表面、硬度和尺寸穩(wěn)定性較好，這些性能使陶瓷材料成為許多半導(dǎo)體應(yīng)用中優(yōu)選的襯底支架材料。陶瓷襯底...
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