技術(shù)編號：3414367
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明一般涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域中的一種回收廢棄研磨液及去離子水的裝置及方法，更確切的說，本發(fā)明涉及。背景技術(shù)隨著半導(dǎo)體組件線寬所見及層數(shù)的增加，平坦化制程已是不可或缺，尤其是研磨工藝越發(fā)被技術(shù)人員重視；但在研磨過程中所使用的研磨液和去離子水等液體，通常是混合在一起排放到管路中，尤其當(dāng)研磨液成分不同時，排出的廢液經(jīng)更加難以回收利用，從而提高了回收成本，且回收的效率也大大降低，造成不必要的浪費，且高速旋轉(zhuǎn)的液體易飛濺到其他設(shè)備上。當(dāng)前的研磨設(shè)備，例如晶圓研磨設(shè)備...
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該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。