技術(shù)編號：3635041
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及新型的形成光刻用下層膜的組合物、由該組合物形成的下層膜、以及使用了該下層膜的光致抗蝕劑圖案的形成方法。另外，本發(fā)明涉及一種在半導(dǎo)體器件制造的光刻工藝中可以用作下述膜的下層膜，即，用于防止從半導(dǎo)體基板的反射光而在半導(dǎo)體基板與光致抗蝕劑之間形成的下層防反射膜、用于使具有凹凸的半導(dǎo)體基板平坦化的平坦化膜、以及在加熱烘烤時(shí)等防止由半導(dǎo)體基板產(chǎn)生的物質(zhì)造成光致抗蝕劑層污染的膜等，還涉及用于形成該下層膜的形成光刻用下層膜的組合物。另外，本發(fā)明涉及可以用于填埋...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。