技術(shù)編號:40239354
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于回旋加速器,尤其涉及一種布設(shè)在回旋加速器外部的回旋加速器物理參數(shù)測試裝置。背景技術(shù)、離子源是回旋加速器的重要組成部分,為回旋加速器提供離子束。醫(yī)用小型回旋加速器離子源通常為h-離子源,分為內(nèi)部離子源和外置離子源等兩種形式。內(nèi)部離子源具有結(jié)構(gòu)簡單,成本低廉等優(yōu)點。、內(nèi)部離子源的設(shè)計難點在于:、第一、其性能受限于陽極腔的機(jī)械加工尺寸,機(jī)械加工尺寸的公差變動會對離子源引出束流的性能造成較大影響。例如,如果離子源陽極腔的內(nèi)部加工尺寸相差零點幾個毫米,其生產(chǎn)出的離子就可能不是當(dāng)前所要的離子...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。