技術(shù)編號：40372239
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于薄膜、被動制冷領(lǐng)域，具體涉及一種高導(dǎo)熱輻射制冷復(fù)合膜的制備方法。背景技術(shù)、太陽照射和設(shè)備工作產(chǎn)生的損耗使物體表面和內(nèi)部溫度都升高，特別是如今全球氣溫上升的夏季，可能影響到了設(shè)備的正常運行，甚至是其周圍居民的人生安全。通過大氣窗口(-?μm)自發(fā)地將熱量散發(fā)到外太空，而不消耗任何能量或釋放二氧化碳的輻射冷卻技術(shù)，因其易于使用和可擴(kuò)展性而具有前景。、目前大多數(shù)研究人員只是在具有選擇性高發(fā)射聚合物材料的基礎(chǔ)上，通過創(chuàng)造多孔或者填充介電粒子對太陽光進(jìn)行散射來獲得高太陽光反射能力以此來...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。