技術(shù)編號(hào):40405883
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于晶體檢測(cè),涉及晶體位錯(cuò)的檢測(cè),具體涉及一種基于芬頓反應(yīng)的晶體位錯(cuò)的檢測(cè)方法。背景技術(shù)、公開該背景技術(shù)部分的信息僅僅旨在增加對(duì)本發(fā)明的總體背景的理解,而不必然被視為承認(rèn)或以任何形式暗示該信息構(gòu)成已經(jīng)成為本領(lǐng)域一般技術(shù)人員所公知的現(xiàn)有技術(shù)。、氮化鎵(gan)作為第三代半導(dǎo)體材料以其寬帶隙、高電子遷移率和高電子飽和速度等優(yōu)點(diǎn)獲得了廣泛應(yīng)用。雖然近年來(lái)gan單晶的晶體質(zhì)量逐漸提高,但仍然具有高密度位錯(cuò)(-cm?),這主要是由于缺乏高質(zhì)量的大塊氮化鎵襯底,阻礙了該材料在高頻、高...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。