技術(shù)編號：5891715
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及硅半導(dǎo)體器件，特別涉及一種用于半導(dǎo)體器件生產(chǎn)環(huán)境 評估的取樣裝置。背景技術(shù)在半導(dǎo)體器件的制造過程中，生產(chǎn)環(huán)境對產(chǎn)品良率影響重大。當(dāng)各種樣品進(jìn)入 半導(dǎo)體器件生產(chǎn)環(huán)境中時(shí)，它們會(huì)釋放多種污染氣體，例如空氣分子污染物(Airborne Molecular Contaminant, AMC)和易揮發(fā)性有機(jī)化合物(VolatileOrganic Compound, V0C) 等，進(jìn)而影響生產(chǎn)環(huán)境，造成產(chǎn)品良率的損失。不同樣品釋放的污染氣體的量是不同的，...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。