技術(shù)編號：6100124
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及壓印制版中達(dá)到高精度間隙和取向測量的方法和系統(tǒng)。背景技術(shù) 壓印制版是一種能在襯底上印制尺寸小于50nm的特征的技術(shù)。在亞100nm領(lǐng)域中，壓印制版有可能取代光刻制版成為半導(dǎo)體制造的選擇技術(shù)。1990年代期間已引入若干壓印制版工藝。然而，其中多數(shù)有局限性，使這些工藝不能用作實際取代光刻制版。這些已有技術(shù)的局限性包括例如溫度變化大、需要高壓和利用通用性模板?？捎脡河≈瓢婀に囋谑覝叵掠玫蛪簭氖⒛０鍖⒏叻直媛蕡D案轉(zhuǎn)移到襯底表面。分步快顯壓印制版(SFI...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。