技術(shù)編號(hào)：6105321
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明是關(guān)于一種樣品基質(zhì)去除裝置，特別是一種適用于半導(dǎo)體材料的高靈敏度分析技術(shù)的樣品基質(zhì)去除裝置。半導(dǎo)體組件的制程中，存在于晶圓片表面的不純物，將可能影響半導(dǎo)體組件的特性及生產(chǎn)良率，因此，如何有效的控制制程中不純物的導(dǎo)入，是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展中一個(gè)非常重要的課題。而如何發(fā)展與建立一種高靈敏度的材料分析技術(shù)，以控制半導(dǎo)體材質(zhì)的品質(zhì)，將是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)能否持續(xù)發(fā)展的關(guān)鍵之一。目前對(duì)于晶圓表面金屬不純物的分析，常見的方法有全X射線反射螢光儀(Total X-Ray Re...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。