技術(shù)編號(hào)：6112186
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光發(fā)射顯微分析技術(shù)，尤其涉及光發(fā)射顯微鏡的樣品固定器設(shè)計(jì)方案。背景技術(shù) 光發(fā)射顯微鏡(EMMI)是九十年代發(fā)展起來的一種高靈敏度、高分辨率的新型缺陷定位分析技術(shù)。隨著半導(dǎo)體器件線寬的不斷下降，光發(fā)射顯微鏡已廣泛使用于集成電路和分立器件中漏電、擊穿、熱載流子等失效點(diǎn)的定位和失效機(jī)理的分析。光發(fā)射顯微技術(shù)作為一種新型的高分辨率微觀缺陷定位技術(shù)，能夠在大范圍內(nèi)迅速準(zhǔn)確地進(jìn)行器件失效缺陷定位，因而在器件失效分析中得到廣泛使用。在存在著漏電、擊穿、熱載流子...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。