技術(shù)編號：6116684
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于x射線測量領(lǐng)域，涉及一種可以測量納米顆粒應(yīng)力狀態(tài)的新方法。背景技術(shù)摻有金屬納米顆粒的復(fù)合材料中基質(zhì)將納米顆粒彼此隔離開，形成量子點(diǎn)。 當(dāng)納米顆粒的尺寸與電子的德布羅意波長、相干波長及激子波爾半徑可比擬時， 將引起量子尺寸效應(yīng)。同時，當(dāng)納米顆粒的尺寸遠(yuǎn)小于光場波長時，作用于納米 顆粒上的電場明顯不同于周圍介質(zhì)的宏觀場，極化過程改變了局域的介電常數(shù)， 產(chǎn)生介電限域效應(yīng)，產(chǎn)生局域場增強(qiáng)，引起較大的三階非線性光學(xué)效應(yīng)，這類材 料在光傳輸、光存儲和全光開關(guān)...
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