技術(shù)編號(hào)：6177090
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明公開(kāi)一種，屬于雷達(dá)散射截面仿真計(jì)算領(lǐng)域。本發(fā)明首先采用改進(jìn)的射線跟蹤法確定目標(biāo)模型的多次反射RCS，然后根據(jù)現(xiàn)有方法確定目標(biāo)模型的單次反射RCS，最后將兩者疊加，得到總RCS。本發(fā)明具有計(jì)算速度高，內(nèi)存消耗少的優(yōu)點(diǎn)；由于考慮了多次反射的效應(yīng)，射線跟蹤法能夠很好的模擬高頻條件下的目標(biāo)多次反射效應(yīng)，大大提高了計(jì)算多次反射線路徑的效率，提高計(jì)算目標(biāo)多次散射的RCS速度。專利說(shuō)明[0001]本發(fā)明涉及到一種應(yīng)用于復(fù)雜目標(biāo)多次反射的雷達(dá)散射截面(RCS Rad...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。