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      包括動態(tài)參考層之磁阻記憶胞元的制作方法技術資料下載

      技術編號:6768092

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      本發(fā)明系關于用于增加磁阻記憶胞元之相對阻值差,在一半導體裝置中,該磁阻記憶胞元在一第一磁化態(tài)與一第二磁化態(tài)之間,具有一記憶層與一參考層于信道阻障兩側,其中該記憶層之磁化相對于該參考層之參考磁化系為單向,其中該第二磁化態(tài)系相對于該參考磁化被相對地引導。一磁阻記憶胞元通常系包含兩鐵磁系統(tǒng),且其間具有一非鐵磁隔離層。在最簡單的范例中,該兩系統(tǒng)系包含一鐵磁層。該第一鐵磁層典型系以硬鐵材質(zhì)制造,例如鈷-鐵合金。此鐵磁層具有磁性與方向之永久磁化作用,而作為一參考層。以...
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