技術(shù)編號(hào):6804667
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及,更具體地說(shuō),涉及以簡(jiǎn)單的制造工藝,而改善了所提供圖形在高臺(tái)階部位的圖形輪廓。與一系列高集成度與高性能半導(dǎo)體器件相適應(yīng),已導(dǎo)致一種復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。因此,很需要在半導(dǎo)體襯底上能形成微細(xì)圖形的工藝技術(shù)。大家都清楚這樣的半導(dǎo)體器件圖形是通過(guò)光刻的方法形成的。通過(guò)光刻法來(lái)如下首先在待形成圖形的襯底的上表面,諸如絕緣層、導(dǎo)電層或半導(dǎo)體圓片上,形成其溶解度隨光照,例如紫外光或X射線而改變的光刻膠層。用刻有圖形的掩模,選擇性地將預(yù)定部位曝光,光就有選擇地照射到膠層...
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