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      在微電子元件的制造過程中用于控制工件表面暴露于處理液的裝置和方法技術資料下載

      技術編號:6823265

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      發(fā)明的背景技術 用諸如半導體晶片襯底、聚合物襯底等工件制造微電子元件包括相當大量的工序。一般來說,制造一個或多個微電子元件而在工件上進行的處理操作有四類。這種操作包括材料淀積、構圖、摻雜和熱處理。材料淀積處理包括向工件(以下稱為半導體晶片,但不僅限于半導體晶片)表面淀積薄層電子材料。構圖是除去這些添加層的選擇部分。半導體晶片的摻雜是將被稱為“摻雜劑”的雜質(zhì)添加到晶片的選擇部分從而改變襯底材料的電特性的工藝。半導體晶片的熱處理涉及加熱和/或冷卻晶片以達到特殊...
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