技術(shù)編號：6843596
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明總的來說涉及一種半導(dǎo)體器件，并且特別涉及一種用于半 導(dǎo)體器件的對準(zhǔn)輔助物。背景技術(shù)對準(zhǔn)輔助物用于半導(dǎo)體器件的制造。對于某些工藝，例如為了燒 斷熔絲，用激光器掃描對準(zhǔn)輔助物以在半導(dǎo)體晶片上提供位置的指 示。典型地，對準(zhǔn)輔助物包括對準(zhǔn)特征區(qū)域和與對準(zhǔn)特征區(qū)域相鄰的 背景區(qū)域，其中對準(zhǔn)特征區(qū)域提供第一水平的光反射率，背景區(qū)域提 供與第一水平大不相同的第二水平的光反射率。對于正密度對準(zhǔn)輔助物，對準(zhǔn)特征提供高水平的光反射率而背景區(qū)域提供相對低水平的光 反射率。...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。