技術編號：6849461
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種半導體工藝，特別是涉及一種高拉伸應力(tensile stress)的。背景技術 金屬氧化半導體晶體管(Metal-Oxide-Semiconductor Transistor；MOS)夾著其耗電量非常小，并且適合高密度的集成制造等諸多優(yōu)點，實為現(xiàn)今半導體工藝中，最重要而且應用最廣泛的一種基本的電子元件。隨著半導體的集成度(Integration)的提升，金屬氧化半導體晶體管的尺寸亦隨之縮小。然而，MOS的尺寸縮減有其極限，因此，如何利用其它...
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