技術(shù)編號(hào)：6855429
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種平面顯示器的制作方法，尤其涉及一種具有低溫多晶硅薄膜晶體管的有機(jī)發(fā)光二極管面板的制作方法。背景技術(shù) 一般制造低溫多晶硅薄膜晶體管(low temperature polycrystalline siliconthin film transistor，LTPS TFT)陣列的步驟需使用多達(dá)六至九道光掩模來進(jìn)行光刻工藝(photo-etching-process)，遠(yuǎn)較一般非晶硅薄膜晶體管(hydrogenatedamorphous silico...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。