技術(shù)編號：6856702
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造設(shè)備，特別涉及半導體制造設(shè)備中射頻系統(tǒng)的控制方法及其射頻匹配器。背景技術(shù) 等離子裝置廣泛地應用于制造集成電路(IC)或MEMS器件的制造工藝中。其中一個顯著的用途就是電感耦合等離子體(ICP)裝置。等離子體中含有大量的電子、離子、激發(fā)態(tài)的原子、分子和自由基等活性粒子，這些活性粒子和晶圓相互作用使材料表面發(fā)生各種物理和化學反應，從而使材料表面性能獲得變化。ICP裝置在半導體制造方面能夠完成多種工藝，如各向異性、等向性刻蝕和CVD(化學氣相...
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