技術(shù)編號：6870212
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及基板的清洗技術(shù)，特別涉及適合用于清洗在涂布抗蝕劑液后被進(jìn)行液浸曝光處理的半導(dǎo)體晶片等圓形基板的清洗技術(shù)。背景技術(shù) 在半導(dǎo)體器件或者LCD基板的制造處理中，通過稱為光刻法的技術(shù)對基板進(jìn)行抗蝕劑圖案的形成。所謂光刻法，是通過在半導(dǎo)體晶片(以下稱“晶片”)等基板上涂布抗蝕劑液、把該抗蝕劑以規(guī)定的圖案曝光后，進(jìn)行顯影處理，得到希望的抗蝕劑圖案的技術(shù)。這樣的處理，一般在進(jìn)行抗蝕劑液的涂布以及顯影的涂布·顯影裝置中使用連接曝光裝置的系統(tǒng)進(jìn)行。近年來，有器件圖...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲(chǔ)備，不適合論文引用。