技術(shù)編號(hào)：6876598
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及制膜方法、圖案形成方法和采用這些的電子裝置的制造方法。背景技術(shù) 歷來(lái)，在電子元件的制造中，使用了有爆炸等的危險(xiǎn)的短鏈長(zhǎng)的硅烷。為此，需要實(shí)現(xiàn)在成本和安全方面的改良。另外，在WO2003/026359號(hào)公報(bào)中，以提高材料的選擇自由度的新的圖案形成為目的，提出有一種膜形成裝置，并公開了利用這種裝置的自由射流(free jet)圖案形成方法，該裝置具有可調(diào)整為規(guī)定的真空度的真空室；連接于材料供給源且安裝于所述真空室，將來(lái)自所述材料供給源的材料供給到該真...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。