技術(shù)編號：6931222
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及設(shè)備工藝控制領(lǐng)域，特別是涉及一種降低基板處理設(shè)備能 庫毛的方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)在工藝生產(chǎn)過程中，涉及各種基板處理設(shè)備，而基板處理設(shè)備的能 耗問題 一 直是人們尋求解決的問題。以等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備為例制造晶硅太陽能電池多采用等離子增強化學(xué)氣相沉積(PECVD)工 藝。在晶硅太陽能電池制造設(shè)備中，PECVD設(shè)備多采用在線型鍍膜技術(shù) (In-line PECVD ，在線鍍膜型等離子增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備)。參考圖1所示的In-lin...
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