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      一種低表面反射率的單晶硅太陽電池絨面制作工藝的制作方法技術(shù)資料下載

      技術(shù)編號:6935355

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      本發(fā)明涉及薄片單晶硅太陽電池絨面制作工藝,特別是低表面反射率的單 晶硅太陽電池絨面制作工藝,屬于太陽能應(yīng)用領(lǐng)域。 背景技術(shù)目前,晶體硅仍然是最主要的太陽電池材料,市場份額在90%左右。電池 生產(chǎn)成本的50%以上來自于硅材料。太陽電池用單晶硅片的厚度已經(jīng)在200 pim左右,并正在向150pm甚至更薄的方向發(fā)展。硅片變薄后對光的吸收特別 是長波吸收會有所減弱,激發(fā)的光生載流子會變少,使得太陽電池的光電轉(zhuǎn)換 效率降低。而現(xiàn)有的常規(guī)制絨工藝為堿反應(yīng)形成金字塔絨面...
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