技術(shù)編號(hào)：6975919
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一 太陽能電池片的生產(chǎn)設(shè)備，特別是一種改進(jìn)的太陽能電池片PECVD設(shè)備。 背景技術(shù)目前，現(xiàn)有的太陽能電池片PECVD設(shè)備一般包括有反應(yīng)腔室，該反應(yīng)腔室包括有附塵槽及供氣裝置，該供氣裝置包括有特氣管道及固定于所述附塵槽上的設(shè)有氣體噴淋小孔的氣體噴淋管，該氣體噴淋管與特氣管道相連通。此種結(jié)構(gòu)的太陽能電池片PECVD設(shè)備在對(duì)樣品表面沉積形成固態(tài)薄膜的過程中，Si3N4也會(huì)附著于附塵槽和氣體噴淋小孔上，經(jīng)過長時(shí)間的生產(chǎn)后，附塵槽和氣體噴淋小孔上會(huì)附著...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。