技術(shù)編號：7038716
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明揭示用于促進(jìn)使用光學(xué)檢驗工具檢驗樣本的方法及設(shè)備。使用光學(xué)檢驗工具從EUV光罩獲得指定跨越所述EUV光罩的強(qiáng)度變化的光學(xué)圖像或信號，且將此強(qiáng)度變化轉(zhuǎn)換為移除了雜散光校正CD變化的CD變化，以便產(chǎn)生不具有所述雜散光校正CD變化的臨界尺寸均勻性CDU圖譜。此經(jīng)移除的雜散光校正CD變化起源于用于制作所述EUV光罩的設(shè)計數(shù)據(jù)，且此雜散光校正CD變化通常經(jīng)設(shè)計以在光學(xué)光刻工藝期間補(bǔ)償存在于光學(xué)光刻工具的視場FOV內(nèi)的雜散光差異。將所述CDU圖譜存儲于例如所述檢...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。